隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸由塊體向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜器件隨之快速發(fā)展起來(lái)。濺射法是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，濺射沉積薄膜的源材料即為靶材，材料化學(xué)成分含有貴金屬元素的靶材統(tǒng)稱(chēng)為貴金屬靶材。貴金屬靶材是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料，在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)、微電子產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)等技術(shù)領(lǐng)域，都需要通過(guò)濺射技術(shù)并采用不同的靶材制備出各種不同材質(zhì)的薄膜，來(lái)達(dá)到產(chǎn)品的磁、電、光、壓電等性能要求”。貴金屬靶材市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大并已蓬勃發(fā)展成一個(gè)專(zhuān)業(yè)化的朝陽(yáng)產(chǎn)業(yè)。
濺射鍍膜技術(shù)、濺射用靶材及其制備技術(shù)目前多集中在國(guó)內(nèi)外的靶材公司，如德國(guó)賀利氏、中國(guó)臺(tái)灣光洋、日礦金屬、田中貴金屬等。它們引領(lǐng)著國(guó)際靶材技術(shù)方向，也占據(jù)著全球大部分靶材市場(chǎng)。
濺射靶材在中國(guó)是一個(gè)較新的行業(yè)。近年來(lái)，中國(guó)在濺射靶材的技術(shù)及市場(chǎng)方面取得了長(zhǎng)足進(jìn)步，但與國(guó)際先進(jìn)水平相比，仍存在較大的差距，還沒(méi)有一家專(zhuān)業(yè)化并有一定規(guī)模的靶材公司在全球高端靶材市場(chǎng)占有一席之地。隨著市場(chǎng)的快速發(fā)展，對(duì)靶材品種要求越來(lái)越多,更新?lián)Q代越來(lái)越快。加強(qiáng)研發(fā)制備靶材新工藝，同時(shí)解決尺寸、平整度、純度、密度、雜質(zhì)氮/氧/碳/硫(N/O/C/S)含量、晶粒尺寸與缺陷控制、表面粗糙度、電阻值、異物含量、導(dǎo)磁率等產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題，任重而道遠(yuǎn)。
